Intel обрабатывает 30 000 пластин с помощью новых машин для литографии High-NA EUV

Недавно компании Intel https://www.reuters.com/technology/intel-says-first-two-new-asml-machines-are-production-with-positive-results-2025-02-24/#:~:text=At%20a%20conference%20in%20San,aperture%20(NA)%20lithography%20machines удалось интегрировать в свою производственную линию две самые современные литографические машины ASML High-NA EUV, которые, как сообщается, отличаются более высокой надежностью по сравнению с предыдущими моделями. Стив Карсон (Steve Carson), один из ведущих инженеров Intel, рассказал, что с помощью этих передовых систем компания обработала 30 000 пластин всего за один квартал.

В прошлом году компания Intel первой в отрасли получила инструменты для EUV-литографии High-NA Twinscan EXE:5000, установив их в своем центре разработки D1 недалеко от Хиллсборо, штат Орегон. Хотя ASML рассматривает эти машины как предпроизводственные инструменты - они еще не предназначены для крупносерийного производства - первые результаты компании Intel весьма обнадеживают.

Такое быстрое внедрение знаменует собой заметный стратегический сдвиг для Intel. В прошлом они отставали от конкурентов, когда речь шла о внедрении предыдущего поколения машин для экстремальной ультрафиолетовой литографии, и им потребовалось целых семь лет, чтобы внедрить их в производство. Эта задержка стала одним из факторов, из-за которого Intel уступила TSMC свое преимущество в производстве.

Новые машины High-NA обладают рядом значительных технических преимуществ. Они могут достигать разрешения до 8 нм за одну экспозицию, что лучше, чем разрешение 13,5 нм в старых системах Low-NA. Это означает, что задачи, для которых раньше требовалось три экспозиции и около 40 шагов обработки, теперь могут быть решены с помощью одной экспозиции и всего нескольких шагов.

В настоящее время Intel испытывает эти инструменты с высоким уровнем NA на своей производственной технологии 18A, планируя запустить их в серийное производство вместе с предстоящей технологией 14A (или технологией класса 1,4 нм). Они уже запланировали массовое производство нового поколения микросхем для ПК по технологии 18A на конец этого года, хотя о запуске 14A пока ничего не известно.