Компания Rapidus намерена развернуть в Японии 10 станков EUV для производства 2-нм чипов

Rapidus, японский производитель микросхем, на сайте планирует развернуть 10 передовых систем экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии на своих новых производственных площадках - этот шаг, как ожидается, даст заметный толчок развитию передового японского производства микросхем. Как сообщает Nikkan Kogyo Shimbun, генеральный директор компании Ацуёси Коике поделился планами относительно предстоящих заводов IIM-1 и IIM-2.

Дела пошли в гору в декабре 2024 года, когда первая машина для EUV-литографии прибыла в аэропорт Нью-Читосе - первая в Японии. Согласно графику компании, Rapidus хочет начать пробное производство по нормам 2 нм на IIM-1 уже в апреле 2025 года, а к июню отправить образцы чипов американскому полупроводниковому гиганту Broadcom.

Что касается производственных мощностей, то, по оценкам, если пять инструментов EUV будут работать на максимальной мощности, IIM-1 сможет обрабатывать от 17 000 до 20 000 пластин ежемесячно - при условии, что в процессе производства будет использоваться около 20 слоев EUV. Компания Rapidus будет использовать сканер Twinscan NXE:3800E компании ASML, который теоретически может обрабатывать до 220 пластин в час при дозе 30 мдж/см².

Амбициозная цель массового производства 2-нм чипов намечена на 2027компания Rapidus выходит на игровое поле, переполненное признанными тяжеловесами. TSMC, например, планирует начать производство 2-нм чипов в 2025 году и уже имеет таких крупных клиентов, как Apple, Nvidia, AMD и Qualcomm.

Тем временем, компания Samsung также предпринимает шаги, переоборудуя некоторые из своих 3-нм производственных линий для работы с 2-нм технологией, проводя испытания в партнерстве с такими компаниями, как Nvidia и Qualcomm.